京东方Ａ新获得发明专利授权：“掩模板遮片和掩模板设备”

专利摘要：本申请提供一种用于在基板上蒸镀的掩模板遮片，包括：沿着第一方向延伸的多个第一肋条；和沿着第二方向延伸的多个第二肋条，所述第二方向与所述第一方向相交；其...