京东方A新获得发明专利授权:“掩模板遮片和掩模板设备”

    财富新闻 智能库 2023-12-15 83875 次浏览

    专利摘要:本申请提供一种用于在基板上蒸镀的掩模板遮片,包括:沿着第一方向延伸的多个第一肋条;和沿着第二方向延伸的多个第二肋条,所述第二方向与所述第一方向相交;其中,所述多个第一肋条和所述多个第二肋条相互交叉以形成多个开口区,其中,所述掩模板遮片包括用于蒸镀基板上的第一曝光区的第一区域和用于蒸镀基板上的第二曝光区的第二区域,在所述第一区域和第二区域的分界处设置第三肋条,所述第三肋条用于遮挡基板上的第一曝光区和第二曝光区之间的重叠曝光区,所述第三肋条包括第一子肋条和第二子肋条以及将第一子肋条和第二子肋条间隔开的间隔部,所述第三肋条的宽度大于所述第一肋条的宽度。

    今年以来京东方A新获得专利授权3102个,较去年同期增加了42.88%。结合公司2023年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了52.67亿元,同比减1.77%。

    京东方A新获得发明专利授权:“掩模板遮片和掩模板设备”

    数据来源:企查查

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